لایه نشانی و مشخصه یابی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک نانوساختار اکسید تنگستن (wo3) با ناخالصی وانادیوم

اثر افزودنی های آلی بر خواص ساختاری و الکتروکرومیکی لایه های نازک اکسید تنگستن

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

لایه نشانی و مطالعه ی خواص ساختاری، الکتریکی، اپتیکی و الکتروکرومیک لایه های نازک نانوساختار اکسید وانادیوم و اثر آلاینده ها (گوگرد و فلوئور) بر روی این خواص

در این پژوهش لایه های نازک اکسید وانادیوم روی بستر شیشه با استفاده از روش اسپری پایرولیزیز با انتخاب پارامترهای متفاوت دمای بستر (300، 350، 375، 400، 450، °c 500)، غلظت¬ محلول اولیه (0/05، 0/1، 0/15، mol/lit 0/2) و آهنگ¬ لایه نشانی (3، 5، 7، ml/min 10) رشد یافتند. مطالعه و بررسی اثر پارامترهای لایه نشانی روی خواص ساختاری لایه¬های نازک اکسید وانادیوم نشان داد که برای تشکیل فاز بتا-پنتاکسید واناد...

بررسی و مطالعه ی اثر پارامترهای لایه نشانی روی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن wo3 به روش اسپری پایرولیزیز

اکسید تنگستن یا تری اکسید تنگستن، که یک اکسید فلزی می باشد؛ دارای ویژگی ها جالب اپتیکی، الکتریکی و ساختاری است که توجه فوق العاده پژوهشگران و صنعت را در دو دهه ی اخیر به خود جلب کرده است. ویژگی های مهم آن عبارتند از خاصیت الکتروکرومیک، سنسورگازی و فوتوکاتالیستی. بازده هر کدام از این کاربردها به خواص فیزیکی و شیمیایی wo3 بستگی دارد. با فراهم شدن امکان ساخت نانو ذرات و نانو لایه های اکسید تنگستن ...

بررسی الکترواپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک

در این مطالعه لایه­های نازک الکتروکرومیک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به روش فیزیکی تبخیر حرارتی در خلأ در ضخامت 200 نانومتر بر روی زیر لایه هادی شفاف sno2:f جایگذاری شده و مورد مطالعه اپتیکی در بازه طول موج 400 تا 700 نانومتر و مطالعه الکتریکی در بازه پتانسیل 5/1- تا 5/1+ ولت قرار گرفته­اند. همچنین این لایه­ها به منظور بررسی میزان تغییر گاف انرژی با دما، در دماهای 120، 300 و 500 درجه سیلسیوس ...

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (xrd) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (xrr) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...